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二、同步整流的基本原則二極管to同步整流1.二極管改為同步整流拓撲要符合MOS體二極管方向和原拓撲相同。2.在改動時候應該注意到驅動的容易程度，如下圖。容易的驅動方法應該講整流管（forward)改為下面以便共地方便驅動。適用場合■常規(guī)來講低壓大電流同步整流非常適合，如1.2V,3.3V,5V等，效率可以得到明顯的提升?！龅漠a品設計表明，即使在12V,28V,甚至55V輸出電壓下,如果功率較高（>50W)，即使MOS體二極管反向恢復差于快速二極管，在良好設計的情況下，同步整流依然可以提升效率?！鰝鹘y(tǒng)的同步整流方案基本上都是PWM型同步整流，主開關與同步整流開關的驅動信號之間必須設置一定的死區(qū)時間，以避免交叉導通
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關于東科半導體安徽省東科半導體有限公司是一家芯片設計研發(fā)，封裝生產、銷售一體的企業(yè)，總部坐落于安徽省馬鞍山經濟技術開發(fā)區(qū)數字硅谷產業(yè)園，并成立了東科半導體科技（深圳）有限公司、安徽省東科半導體有限公司無錫分公司。東科主要設計生產AC-DC開關電源IC、同步整流IC、LED驅動IC、觸摸控制IC、恒流穩(wěn)壓控制IC等，并且都具有自主知識產權。產品廣泛應用于小家電產品、手機/電池充電器、AC/DC電源適配器、DVD/VCD電源、空調電源、電磁爐電源、LED電源、電源、反激電源轉換器、反激電源適配器等領域。
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光刻機堪稱現代光學工業(yè)之花，其制造難度非常大，現在ASML的的EUV極紫外線光刻機已經能夠制造5nm制程的芯片了，單臺光刻機的售價已經超過了1億美元，中國完全自主生產的光刻機目前只能達到90nm制程，差了一大截。光刻機的研制到底難在哪？光刻機涉及系統(tǒng)集成、精密光學、精密運動、精密物料傳輸、微環(huán)境控制等多項先進技術，是所有半導體制造設備中技術含量的設備。ASML為能夠在整個設備的不同部位同時獲得先進的技術，ASML的光刻機中超過90%的零件都是向外采購的，ASML在技術研發(fā)方面匯聚了世界前沿的科技，比如德國的機械工藝、德國的蔡司鏡頭、美國的光源和計量設備等，可以說ASML的光刻機是“集人類智慧大成的產物”。國際廠商：ASML阿斯麥爾（荷蘭）中國廠商：SMEE上海微電子